計算機硬盤是一種常用的磁性記錄載體，它由磁頭和磁盤兩大部分組成。一個硬盤至少包括一個磁頭和一個磁盤。磁盤一般由四個部分組成，即基盤（鋁鎂合金或玻璃）、底層、磁記錄層和炭保護層。物理氣相沉積技術是硬盤盤片的主要涂覆技術，利用不同的靶材產品在真空鍍膜系統中在鋁合金或玻璃基片上涂覆復合膜層以實現數據存儲的功能。盤片上的記錄層、軟磁層、中間層、保護層等等都是利用這種技術層層堆疊而成。其中軟磁層主要用到鎳基、鈷基多元合金磁性靶材。
硬盤生產涉及靶材品種也很多，例如記錄層中主要需要含Pt的多元合金靶和一些陶瓷靶，如CoCrPtB靶、SiO2等。中間層主要用到Ru及其合金靶。而軟磁底層材料主要用到一些非貴金屬靶，主要有Cr及Cr合金、Ni及NiW合金、CoFe合金等。
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